特許
J-GLOBAL ID:200903008589791459

温度調整方法及びその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井上 俊夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-028482
公開番号(公開出願番号):特開平9-199491
出願日: 1996年01月23日
公開日(公表日): 1997年07月31日
要約:
【要約】【課題】 実プロセス前に、調整用の温度検出部及びプロセス用の温度検出部を用いて両者の温度差を調べる作業を行う場合、調整作業を容易に行うこと。【解決手段】 調整用の温度センサAを反応管2内に設け、プロセス用の温度センサBを反応管2の外面近傍に設ける。第1の偏差回路部31にて設定値から補正値を差し引いて温度センサBの目標値とする。温度センサBの検出信号をフィ-ドバックル-プに組み込んで、温度センサBの検出値が目標値に収束するようにPID制御する。補正値出力部7では、温度センサBの検出値が目標値に収束したときに、その時点の温度センサAの検出値と温度センサBの検出値との差を補正値とし、目標値を補正値分だけ修正する。こうして温度センサAの検出値が順次設定値に近づき、設定値に収束したときの温度センサBの検出値を得る。
請求項(抜粋):
加熱源により加熱して被処理体を熱処理する装置に、調整用の温度検出部とプロセス用の温度検出部とを設け、調整用の温度検出部の検出値が設定値に安定したときのプロセス用の温度検出部の検出値が収束する温度をプロセス前に予め調べる温度調整方法において、プロセス用の温度検出部の検出信号を調節部の入力側にフィ-ドバックし、調節部よりの出力信号に基づいて加熱源を制御し、その制御結果に基づいて前記調節部の制御パラメ-タの適切値を決定する第1工程と、この第1工程で決定された制御パラメ-タを用いて、プロセス用の温度検出部及び調整用の温度検出部の検出値を安定させる第2工程と、を備え、第2工程は、下記(a)〜(c)までの工程を、調整用の温度検出部の検出値が前記設定値に一致するまで繰り返し行うものであることを特徴とする温度調整方法。(a)前記設定値から補正値を差し引いて前記プロセス用の温度検出部の目標値を得る工程(b)前記プロセス用の温度検出部の検出値を調節部にフィ-ドバックして、当該プロセス用の温度検出部の検出値が前記目標値に収束するように、前記加熱源の電力供給量を制御する工程(c)前記プロセス用の温度検出部の検出値が目標値に収束したときに、このときの調整用の温度検出部の検出値が前記設定値に一致しているか否かを判定し、一致していないときには、この時点の調整用の温度検出部の検出値と前記プロセス用の温度検出部の検出値との差を前記補正値とする工程
IPC (6件):
H01L 21/31 ,  C23C 16/44 ,  G05D 23/19 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 ,  H05B 3/00 310
FI (6件):
H01L 21/31 E ,  C23C 16/44 B ,  G05D 23/19 J ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/22 511 A ,  H05B 3/00 310 D
引用特許:
出願人引用 (4件)
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