特許
J-GLOBAL ID：200903008590982853
半導体工場自動化システム及び自動化方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
瀬谷 徹 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-188364
公開番号（公開出願番号）：特開2001-044091
出願日： 2000年06月22日
公開日（公表日）： 2001年02月16日
要約：
【要約】【課題】 オペレーターが少なくても一つのサーバのエラーを容易に識別できるようにリアルタイム的に少なくとも一つのサーバをモニタリングするための半導体工場自動化システム及び方法を提供する。【解決手段】 半導体工場自動化システムで、少なくとも一つのサーバをモニタリングするための方法において、上記少なくとも一つのサーバからの中央処理装置の利用率、ディスクの利用率、及びプログラムプロセスの状態を含むサーバ状態情報をリアルタイムデータベースに提供する第1ステップと、上記リアルタイムデータベースに上記サーバ状態情報を貯蔵する第2ステップと、上記サーバをモニタリングするために上記サーバ状態情報を検索する第3ステップと、上記検索されたサーバ状態情報をディスプレーする第4ステップとを含む。
請求項（抜粋）：
半導体工場自動化システムにおいて、プログラムプロセスを駆動し、中央処理装置の利用率、ディスクの利用率及び上記プログラムプロセスの状態を有するプロセッサ状態情報を提供するための少なくとも一つのプロセッサと、リアルタイム的に上記プロセッサ状態情報を貯蔵するための貯蔵手段と、上記プロセッサをモニタリングするために上記貯蔵手段で上記プロセッサ状態情報を検索するためのモニタリング手段と、上記検索されたプロセッサ状態情報をディスプレーするためのディスプレー手段とを含むことを特徴とする半導体工場自動化システム。
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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