荷電ビーム描画方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：佐藤一雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-199511
公開番号（公開出願番号）：特開2000-021747
出願日： 1998年06月30日
公開日（公表日）： 2000年01月21日
要約：

【要約】【課題】描画エラーが生じない通常描画に対する最適なステージ移動速度を各フレーム領域毎に、また多重描画におけるストライプ領域のステージ移動速度を高速に算出する手法を提供する。【解決手段】フレーム(ストライプ)領域内のパターン密度を考慮してブロックを固定または任意の小領域に分け、この小領域に対する描画時間から描画エラーが生じない最適なステージ移動速度を各フレーム領域毎に決定し、また、多重描画におけるストライプ領域のステージ移動速度を決定する。

請求項（抜粋）：

ステージ上に支持された試料に対し、荷電ビームを主偏向、副偏向で偏向させるとともに、主偏向幅で決まるフレーム領域を単位としてパターンを描画する荷電ビーム描画方法において、前記フレームを前記走査方向に分割した小領域ごとの描画時間を求め、連続する前記小領域を所定数抽出したブロック単位毎のブロック描画速度のうち最も遅い速度をフレーム領域描画用ステージ移動速度として描画を行うことを特徴とする荷電ビーム描画方法。

IPC (5件)：

H01L 21/027 , G03F 1/08 , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/305

FI (5件)：

H01L 21/30 541 J , G03F 1/08 C , G03F 7/20 504 , G03F 7/20 521 , H01J 37/305 B

Fターム (17件)：

2H095BA05 , 2H095BA08 , 2H095BB31 , 2H097AA11 , 2H097AB05 , 2H097BB01 , 2H097CA16 , 2H097LA10 , 5C034BB04 , 5C034BB07 , 5C034BB10 , 5F056AA20 , 5F056CA02 , 5F056CB23 , 5F056CC05 , 5F056CC09 , 5F056CD03

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平2-005406
特開平4-061221
荷電ビーム描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-187472 出願人：株式会社東芝

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