特許
J-GLOBAL ID：200903008717927423

プラズマを収容する解放型共振器の共振周波数の変化を利用した電子密度測定並びにプラズマ処理制御システム

発明者：
バーディアン、ジョセフ・ティー

バーディアン、ジョセフ・ティー について

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ジョンソン、ウェイン・エル

ジョンソン、ウェイン・エル について

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サーキス、マーレー・ディー

サーキス、マーレー・ディー について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-511715
公開番号（公開出願番号）：特表2003-523045
出願日： 2000年07月20日
公開日（公表日）： 2003年07月29日
要約：
【要約】【課題】【解決手段】プラズマ電子密度を測定し(例えば1010乃至1012cm-3の範囲)、プラズマジェネレータを制御するためのシステムにおいて、プラズマ電子密度の測定は、堆積もしくはエッチングのようなプラズマアシスト処理におけるフィードバック制御の一部として使用される。プラズマ測定方法及びシステムは、制御電圧を発生させる。この電圧は、プラズマジェネレータを制御する。プログラム可能な周波数源は、プラズマ処理装置内に位置された開放型共振器の複数の共振モードを連続的に励起する。共振モードの共振周波数は、開放型共振器のリフレクター間の空間内のプラズマ電子密度に応じる。装置は、プラズマの導入により、開放型共振器において任意に選択された共振モードの共振周波数の増加を自動的に決定し、この決定された周波数と、予め入力されたデータとを比較する。
請求項（抜粋）：
プラズマを収容するプラズマチャンバと、 (a)減少する周波数をプラズマチャンバに供給し、かつ、(b)減少する周波数を供給した後に、増加する周波数をプラズマチャンバに供給するための周波数源と、 (a)前記減少する周波数によって励起された第1セットの共振周波数を検出すると共に、(b)前記増加する周波数によって励起された第2セットの共振周波数を検出するための共振周波数検出器と、 前記第1セットの周波数の数と第2セットの周波数の数との間の差を検出するためのコンパレータと、 プラズマのしま次数を検出するためのしま次数計算機と、 このしま次数に基づいて、プラズマのプラズマ電子密度を検出するための密度計算機と、を具備するプラズマチャンバ中のプラズマ電子密度を測定するためのシステム。
IPC (2件)：
H05H 1/00 ,  H05H 1/46
FI (2件)：
H05H 1/00 A ,  H05H 1/46 A
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (5件)
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