特許
J-GLOBAL ID：200903008891250653

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
竹下 優

竹下 優 について

, 
渡部 良司

渡部 良司 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-145284
公開番号（公開出願番号）：特開2007-316294
出願日： 2006年05月25日
公開日（公表日）： 2007年12月06日
要約：
【課題】有機溶剤への溶解性に優れ、かつリソグラフィー特性も良好なポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、第3級アルキル基含有基含有の脂肪族環式基を含むアクリル酸エステル単位(a0)と、第3級アルキルエステル型であって多環式基を有する酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含有するポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、下記一般式(a0)で表される構成単位(a0)と、第3級アルキルエステル型であって多環式基を有する酸解離性溶解抑制基を含むアクリル酸エステルから誘導される構成単位(a1)とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 220/18
FI (3件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F220/18
Fターム (26件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB52 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA11Q ,  4J100BA22R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA38 ,  4J100DA39 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM