特許
J-GLOBAL ID:200903087463919538
レジスト組成物およびレジストパターン形成方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (5件):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-295150
公開番号(公開出願番号):特開2006-106497
出願日: 2004年10月07日
公開日(公表日): 2006年04月20日
要約:
【課題】 LWRを低減させることができるレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法を提供する。【解決手段】 樹脂成分(A)および酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物において、(A)成分が、(a0)下記一般式(a0)で表される構成単位と、【化1】 (Rは水素原子又は低級アルキル基;Y1は脂肪族環式基;Zはアルコキシアルキル基を示し;aは1〜3の整数、bは0又は1〜2の整数を示し、a+b=1〜3である。)(a1)酸解離性溶解抑制基を有する(α-低級アルキル)アクリル酸エステルから誘導される構成単位であり、構成単位(a0)に該当しない単位とを有する高分子化合物(A1)を含有するレジスト組成物。【選択図】 なし
請求項(抜粋):
酸の作用によりアルカリ可溶性が変化する樹脂成分(A)および酸発生剤成分(B)を含有するポジ型レジスト組成物において、
(A)成分が、(a0)下記一般式(a0)で表される構成単位と、
IPC (3件):
G03F 7/039
, G03F 7/033
, H01L 21/027
FI (3件):
G03F7/039 601
, G03F7/033
, H01L21/30 502R
Fターム (12件):
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025FA17
引用特許: