特許
J-GLOBAL ID:200903008893736405

異方性導電膜及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 中野 稔 ,  山口 幹雄 ,  二島 英明
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-217918
公開番号(公開出願番号):特開2008-041592
出願日: 2006年08月10日
公開日(公表日): 2008年02月21日
要約:
【課題】 膜厚方向に弾力性があり、繰り返し検査が可能であると共に、耐熱性に優れ、さらに非検査体の電極形状が凹形状であっても優れた接続信頼性を有する優れた接続信頼性を有する異方性導電膜、およびその製造方法を提供すること。【解決手段】 電気絶縁性の基膜10と、前記基膜の第一表面から第二表面に貫通する状態で設けられた導通部9を有する異方性導電膜であって、前記導通部9は膜厚方向に弾力性を有し、前記基膜の第一表面及び第二表面の少なくとも一方から突出していることを特徴とする異方性導電膜。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
電気絶縁性の基膜と、前記基膜の第一表面から第二表面に貫通する状態で設けられた導通部を有する異方性導電膜であって、 前記導通部は膜厚方向に弾力性を有し、前記基膜の第一表面及び第二表面の少なくとも一方から突出していることを特徴とする異方性導電膜。
IPC (2件):
H01R 11/01 ,  H01R 43/00
FI (3件):
H01R11/01 501G ,  H01R11/01 501A ,  H01R43/00 H
Fターム (1件):
5E051CA04
引用特許:
出願人引用 (1件) 審査官引用 (5件)
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