特許

J-GLOBAL ID：200903008940138481

リソグラフィ装置およびデバイス製造方法

発明者： ファディム イェフゲンイェフィチ バニーネ ,  ヨハネス フーベルタス ジョセフィーナ ムーアズ
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  岩本 行夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-136766
公開番号（公開出願番号）：特開2006-135286
出願日： 2005年05月10日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】光学システムにおける放射線ビーム中の望ましくない放射線の強度を小さくするリソグラフィ装置およびデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】本発明のリソグラフィ装置は、所定の波長または所定の波長範囲を有する所望の放射線、および他の波長または他の波長範囲を有する望ましくない放射線を含む放射線ビームを伝送するようになされた照明システムと、放射線ビームの断面にパターンを付与するようになされたパターニング構造を支持するようになされた支持構造と、基板を保持するようになされた基板テーブルと、パターンを付与された放射線ビームを基板のターゲット部分に投射するようになされた投影システムとを有し、また使用に際して、リソグラフィ装置の少なくとも一部に、所望の放射線の少なくとも一部に対して実質的に透過性であり、且つ望ましくない放射線の少なくとも一部に対して実質的に透過性の小さいガスを含む。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

放射線ビームを伝送するように構成された照明システムであって、前記放射線ビームは、所定の波長または所定の波長範囲を有する所望の放射線、および他の波長または他の波長範囲を有する望ましくない放射線を含んでいる照明システムと、 パターニング構造を支持するように構成された支持構造であって、前記パターニング構造は、前記放射線ビームの断面にパターンを付与するように構成されている支持構造と、 基板を保持するように構成された基板テーブルと、 パターンが付与された前記放射線ビームを前記基板のターゲット部分に投影するように構成された投影システムと を有するリソグラフィ装置において、 前記リソグラフィ装置の少なくとも一部が、使用中に、前記所望の放射線の少なくとも一部に対して実質的に透過性のガスであって、前記望ましくない放射線の少なくとも一部に対して実質的に透過性のより小さいガスを有しているリソグラフィ装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (3件)：

H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 516F

Fターム (4件)：

5F046AA22 ,  5F046DA27 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平4-007820
  
• 照明光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-267208   出願人：株式会社ニコン
• 特開平4-007820
  
• リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、及びそれにより製造されたデバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-262626   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ, コニンクリユケフィリップスエレクトロニクスエヌ.ブイ.
• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-375813   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 特開平4-007820