特許
J-GLOBAL ID：200903009105136059
エチレンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 俊一郎 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-026824
公開番号（公開出願番号）：特開2000-309549
出願日： 2000年02月03日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
要約：
【要約】【解決手段】本発明は、水素、メタン、エタンおよびエチレンを含むガス状炭化水素から、エチレンを製造する方法であって、(I)ガス状炭化水素を、炭化水素選択透過膜を有する膜分離装置に導入し、エチレンをほぼ全量含む炭化水素ガス(A)と、実質的にエチレンを含まないガス(B)とに分離する工程と、(II)エチレンをほぼ全量含む炭化水素ガス(A)を深冷分離する工程とを有することを特徴としている。【効果】 本発明によれば、深冷分離工程に係る冷却エネルギーおよび冷媒などを大幅に節約することができ、また、装置への負荷を小さくすることができる。また脱メタンを行うためのプレフラクショネーターおよび脱メタン塔への負荷も低減することができる。また、既設の深冷分離および、脱メタン塔などの後続するエチレン分離装置を用いる場合には、処理量を大幅に増加させることができる。
請求項（抜粋）：
水素、メタン、エタンおよびエチレンを含むガス状炭化水素から、エチレンを製造する方法であって、(I)ガス状炭化水素を、炭化水素選択透過膜を有する膜分離装置に導入し、エチレンをほぼ全量含む炭化水素ガス(A)と、実質的にエチレンを含まないガス(B)とに分離する工程と、(II)エチレンをほぼ全量含む炭化水素ガス(A)を深冷分離する工程とを有することを特徴とするエチレンの製造方法。【請求項2】炭化水素選択透過膜が、エチレンと、水素ガスとの膜透過速度比が4〜10の範囲の炭化水素選択透過膜である、請求項第1項に記載のエチレンの製造方法。【請求項3】炭化水素ガス(A)を深冷分離する工程(II)が、ガス状成分を順次冷却した複数の温度帯域で、複数の気液分離器を用いて分離する工程である、請求項第1項または第2項に記載のエチレンの製造方法。
IPC (3件)：
C07C 7/144
, C07C 7/09
, C07C 11/04
C07C 7/144
, C07C 7/09
, C07C 11/04
4H006AA02
, 4H006AD18
, 4H006AD19
, 4H006BC51
, 4H006BD60
, 4H006BD70
