特許
J-GLOBAL ID：200903009117116126

静電吸着装置

発明者：
砂田 剛

砂田 剛 について

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藤本 秀樹

藤本 秀樹 について

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菊池 正志

菊池 正志 について

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渡辺 みどり

渡辺 みどり について


出願人/特許権者：
日本真空技術株式会社

日本真空技術株式会社 について


代理人 (1件)： 石島 茂男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-161082
公開番号（公開出願番号）：特開平9-321128
出願日： 1996年05月31日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：
【要約】【課題】 基板表面のプラズマ処理を均一に行うことができる静電吸着装置を提供する。【解決手段】 平板状に成形された2枚の電極21、22を略同一平面内に位置させ、各電極21、22表面に絶縁材料3を設け、その絶縁材料3表面に基板4を配置し、電極21、22間に電圧を印加して静電吸着する際、2枚の電極21、22の間隔を、電極21、22表面上の絶縁物3の厚みの5倍以下にしておく。基板4と電極21、22間のキャパシタンス値が至る所略均一になり、基板4表面のプラズマ処理を均一に行うことが可能となる。電極21、22間の間隔は静電破壊を生じない範囲でできるだけ近接させることが好ましいが、最大印加電圧が定まっている場合、電極間21、22にその電圧を印加したときに流れる電流の大きさが所定の漏れ電流以下になるようにしておいてもよい。
請求項（抜粋）：
平板状に成形され、略同一平面内に離間して配置された2枚の電極と、前記2枚の電極上に略均一な厚みで設けられた絶縁材料とを有し、前記絶縁材料表面に基板を配置し、前記2枚の電極間に電圧を印加して前記基板を静電吸着できるように構成された静電吸着装置であって、前記2枚の電極間の間隔を、前記絶縁材料が絶縁破壊をしない範囲で可及的に狭くしたことを特徴とする静電吸着装置。
IPC (5件)：
H01L 21/68 ,  B23Q 3/15 ,  H01L 21/3065 ,  H02N 13/00 ,  H05H 1/46
FI (5件)：
H01L 21/68 R ,  B23Q 3/15 D ,  H02N 13/00 D ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B
引用特許：
審査官引用 (3件)

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