特許
J-GLOBAL ID：200903009174974449
レジスト残渣用剥離剤組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小林 浩 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-070158
公開番号（公開出願番号）：特開2003-270802
出願日： 2002年03月14日
公開日（公表日）： 2003年09月25日
要約：
【要約】【課題】 強固なレジスト残渣を低温、短時間で剥離できる強力な剥離力と、各種配線材料、絶縁膜等に対して強固なレジスト残渣を低温、短時間で剥離できる強力な剥離力と、各種配線材料、絶縁膜等に対して優れた防食性とを有する剥離剤組成物の提供。【解決手段】 (a)金属を含まない塩基とフッ化水素酸との塩、(b)水溶性有機溶媒、(c)糖アルコール、及び(d)水、並びに任意に(e)フッ化水素酸を含有し、かつ水素イオン濃度(pH)が8超であることを特徴とするレジスト残渣用剥離剤組成物。
請求項（抜粋）：
(a)金属を含まない塩基とフッ化水素酸との塩、(b)水溶性有機溶媒、(c)糖アルコール、及び(d)水を含有し、かつ水素イオン濃度(pH)が8超であることを特徴とするレジスト残渣用剥離剤組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/42
, H01L 21/027
, H01L 21/304 647
G03F 7/42
, H01L 21/304 647 A
, H01L 21/30 572 B
2H096AA25
, 2H096LA03
, 5F046MA02
