特許
J-GLOBAL ID:200903009257984624
磁気記録材料用基板の製造方法及び磁気記録材料
発明者:
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出願人/特許権者:
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代理人 (1件):
三枝 英二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-205768
公開番号(公開出願番号):特開2003-022524
出願日: 2001年07月06日
公開日(公表日): 2003年01月24日
要約:
【要約】【課題】低価格で安定に供給されるガラス材料を基板材料として用いて、高密度化、高速化に適した安価な磁気記録材料用基板を提供する。【解決手段】相互に対向状に配設された一対の電極にパルス波形を有する交番電圧を印加して発生させたプラスマを用いたスパッタリング法によってガラス基板表面にバリアー層を形成することを特徴とする磁気記録材料用基板の製造方法。
請求項(抜粋):
相互に対向状に配設された一対の電極にパルス波形を有する交番電圧を印加して発生させたプラスマを用いたスパッタリング法によってガラス基板表面にバリアー層を形成することを特徴とする磁気記録材料用基板の製造方法。
IPC (4件):
G11B 5/84
, C03C 17/245
, C23C 14/34
, G11B 5/73
FI (4件):
G11B 5/84 Z
, C03C 17/245 A
, C23C 14/34 S
, G11B 5/73
Fターム (34件):
4G059AA08
, 4G059AB11
, 4G059AC24
, 4G059DA01
, 4G059DA02
, 4G059DA03
, 4G059DA04
, 4G059DA05
, 4G059DA08
, 4G059DA09
, 4G059DB02
, 4G059EA01
, 4G059EA04
, 4G059EA11
, 4G059EB04
, 4K029AA09
, 4K029AA24
, 4K029BD11
, 4K029CA05
, 4K029DC35
, 4K029EA09
, 5D006CB04
, 5D006CB08
, 5D006DA03
, 5D006EA03
, 5D006FA02
, 5D112AA02
, 5D112AA11
, 5D112BA03
, 5D112BA05
, 5D112BA09
, 5D112FA04
, 5D112FA05
, 5D112FB05
引用特許:
審査官引用 (4件)
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特開昭63-112819
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薄膜形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-273815
出願人:日本真空技術株式会社, 工業技術院長
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薄膜形成方法及び薄膜形成装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平11-273838
出願人:日本真空技術株式会社, 工業技術院長
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