特許

J-GLOBAL ID：200903009429551059

マスク取扱い方法、およびマスクおよびそのためのグリッパを含む器具または装置、デバイス製造方法およびそれによって製造したデバイス

発明者： ゲルリット - ヤン ヘーレンス ,  エリク レオナルデュス ハム ,  バスティアーン ラムベルテュス ウィルヘルムス マリヌス ファン デ フェン
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-051332
公開番号（公開出願番号）：特開2002-324757
出願日： 2002年02月27日
公開日（公表日）： 2002年11月08日
要約：

【要約】【課題】 超紫外線を使うリソグラフィ投影装置用反射性マスクのパターンの鮮明な結像を妨害する汚染物質粒子の発生を大幅に減少し、マスク配置再現性のよい、単純なマスク取扱い方法、および装置を提供すること。【解決手段】 このマスクの周辺に、それぞれ、マスクの中心点の方に向いた溝11bを有する三つのブラケット10が配置してある。このマスクを取扱うための装置のグリッパ20には、上記の溝に対応する位置にボール22b付のピン21bが設けてある。このマスクを重力によってグリッパ20上に保持するとき、ボール22bが溝11bに部分的に挿入されてこのマスクの位置が運動学的に決るので、汚染粒子発生が最少で非常に正確な位置決めができる。静電気力等を使う上からの把持には、溝11aおよびピン21aを使う。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置(1)での超紫外線電磁放射線の投影ビーム(PB)のパターニングに適した反射性マスク(MA)の取扱い方法であって、取扱中に上記マスク(MA)の運動学的に決る保持をする工程を含み、上記運動学的に決る保持をする工程が、グリッパ(20)上に設けた一組の突起(21b,31,32)とこのマスク(MA)の周辺領域に設けたそれぞれの組のくぼみ(11b,33a,34a)との協同を含むことを特徴とする方法。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B65G 49/00 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68

FI (7件)：

B65G 49/00 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/68 N ,  H01L 21/68 T ,  H01L 21/30 503 D ,  H01L 21/30 531 M

Fターム (23件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031DA12 ,  5F031EA14 ,  5F031EA19 ,  5F031HA16 ,  5F031HA24 ,  5F031HA28 ,  5F031HA30 ,  5F031HA53 ,  5F031KA03 ,  5F031KA06 ,  5F031KA20 ,  5F031MA27 ,  5F031NA04 ,  5F031NA05 ,  5F031PA26 ,  5F046AA21 ,  5F046GA03 ,  5F046GA12 ,  5F046GD10 ,  5F046GD20

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 原版保持装置およびこれを用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-044246   出願人：キヤノン株式会社
• 原版および原版保持装置ならびにこれを用いた露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-205997   出願人：キヤノン株式会社
• 基板および基板保持方法ならびにその装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-111991   出願人：キヤノン株式会社
• 特開昭60-160619