真空処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大垣孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-146300
公開番号（公開出願番号）：特開2002-339064
出願日： 2001年05月16日
公開日（公表日）： 2002年11月27日
要約：

【要約】【課題】優れた膜質の薄膜を製造する。【解決手段】ハウジングにシール機構を介して回転可能に設けられた基板ホルダー部と、該基板ホルダー部を回転させるための回転駆動部と、を具える真空処理装置において、前述の基板ホルダー部は、管軸を回転軸として回転可能な第1の管状体と、該第1の管状体内部に前述の管軸と管軸とを共通にして挿入され、かつ固定された第2の管状体とを有し、前述の第1の管状体は、その一端を閉成する基板載置板を具え、前述の第2の管状体は、前述の基板載置板に対向する一端側に、基板を冷却するための冷却部と、前述の基板を加熱するための加熱部とを具える。このようにすると、基板の温度制御を確実に行うことができ、かつ基板を回転軸を中心に回転することができる。

請求項（抜粋）：

ハウジングにシール機構を介して回転可能に設けられた基板ホルダー部と、該基板ホルダー部を回転させるための回転駆動部とを具える真空処理装置において、前記基板ホルダー部は、管軸を回転軸として回転可能な第1の管状体と、該第1の管状体内部に前記管軸と管軸とを共通にして挿入され、かつ固定された第2の管状体とを有し、前記第1の管状体は、その一端を閉成する基板載置板を具え、前記第2の管状体は、前記基板載置板に対向する一端側に、基板を冷却するための冷却部と、前記基板を加熱するための加熱部とを具えることを特徴とする真空処理装置。

IPC (2件)：

C23C 14/50 , B01J 3/00

FI (4件)：

C23C 14/50 E , C23C 14/50 J , B01J 3/00 L , B01J 3/00 M

Fターム (5件)：

4K029BD00 , 4K029DA06 , 4K029DA08 , 4K029JA02 , 4K029KA05

引用特許：

審査官引用 (6件)

基板保持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-048671 出願人：玉井忠素
特開平1-294862
特公平7-116601

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