特許
J-GLOBAL ID:200903009648079560

n型窒化物半導体層の電極

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-152866
公開番号(公開出願番号):特開平9-008407
出願日: 1995年06月20日
公開日(公表日): 1997年01月10日
要約:
【要約】【目的】 n型窒化物半導体層と好ましいオーミック接触が得られ、さらにワイヤーとも強固に接着できる安定な変質しにくい電極を提供する。【構成】 n型窒化物半導体層の表面に形成されるオーミック電極であって、前記電極はn型窒化物半導体層と接する側がチタンよりなり、その上にクロムおよび/またはニオブを積層した少なくとも2層構造を有する。
請求項(抜粋):
n型窒化物半導体層の表面に形成されるオーミック電極であって、前記電極はn型窒化物半導体層と接する側がチタンよりなり、その上にクロムおよび/またはニオブを積層した少なくとも2層構造を有することを特徴とするn型窒化物半導体層の電極。
IPC (5件):
H01S 3/18 ,  H01L 29/43 ,  H01L 31/04 ,  H01L 31/10 ,  H01L 33/00
FI (6件):
H01S 3/18 ,  H01L 33/00 E ,  H01L 33/00 C ,  H01L 29/46 H ,  H01L 31/04 E ,  H01L 31/10 H
引用特許:
審査官引用 (5件)
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