特許
J-GLOBAL ID：200903009691539221

プログラミングされた反応物ガスの散布を有するプラズマリアクタ

発明者：
ホンチン シャン

ホンチン シャン について


出願人/特許権者：
アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド

アプライド マテリアルズ インコーポレイテッド について


代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-146212
公開番号（公開出願番号）：特開平9-115893
出願日： 1996年06月07日
公開日（公表日）： 1997年05月02日
要約：
【要約】【課題】 トライアルアンドエラーの方法を用いてガス散布プレートを適用させなければならない必要性を排除する。【解決手段】真空チャンバの内部で半導体ウエハを処理するためのプラズマリアクタであって、チャンバ内でウエハの上面の別々の部分の上でこれと面しているガス散布オリフィスのアレイないし配列と、ガスフロー供給器と、ガスフロー供給器からガス散布オリフィスのそれぞれ1つへと、それぞれ別個のガス流量で別個にガスをつなげる、プログラミング可能なガスフロー分割器であって、ウエハの上面のそれぞれのオリフィスの下にあるそれぞれの部分における流量が、それぞれ決定される、ガスフロー分割器と、ウエハの処理のため、チャンバの内部でこの中にあるガスからプラズマを点火するためのラジエーションアプリケータとを備えるプラズマリアクタ。
請求項（抜粋）：
真空チャンバの内部で半導体ウエハを処理するためのプラズマリアクタであって、前記チャンバ内で前記ウエハの上面の別々の部分の上でこれと面しているガス散布オリフィスのアレイないし配列と、ガスフロー供給器と、前記ガスフロー供給器から前記ガス散布オリフィスのそれぞれ1つへと、それぞれ別個のガス流量で別個にガスをつなげる、プログラミング可能なガスフロー分割器であって、前記ウエハの前記上面のそれぞれのオリフィスの下にあるそれぞれの部分における流量が、それぞれ決定される、前記ガスフロー分割器と、前記ウエハの処理のため、前記チャンバの内部でこの中にあるガスからプラズマを点火するためのラジエーションアプリケータとを備えるプラズマリアクタ。
IPC (3件)：
H01L 21/3065 ,  H01L 21/02 ,  H01L 21/205
FI (3件)：
H01L 21/302 B ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/205
引用特許：
審査官引用 (4件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM