特許
J-GLOBAL ID：200903009706897847
放電電極への給電方法、高周波プラズマ生成方法および半導体製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-069044
公開番号（公開出願番号）：特開2001-257098
出願日： 2000年03月13日
公開日（公表日）： 2001年09月21日
要約：
【要約】【課題】 大面積の製膜およびエッチング処理に高高周波(VHF)を用いて均一な処理を行うことができる放電電極への給電方法、高周波プラズマ生成方法および半導体製造方法を提供する。【解決手段】 給電された高周波電力に基づいて放電状態を発生させるための放電電極への給電方法であって、高周波電力の位相および周波数位相のうち少なくとも一方を時間的に変化させることにより、放電電極内に生じる電圧分布を変化させる。
請求項（抜粋）：
給電された高周波電力に基づいて放電状態を発生させるための放電電極への給電方法であって、前記高周波電力の電圧波形の位相を時間的に変化させることにより、前記放電電極内に生じる電圧分布を変化させることを特徴とする放電電極への給電方法。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
H05H 1/46 M
, C23C 16/50
, H01L 21/205
, H01L 21/302 B
4K030AA06
, 4K030AA17
, 4K030BA29
, 4K030BB04
, 4K030CA06
, 4K030CA17
, 4K030FA03
, 4K030JA18
, 4K030JA19
, 4K030LA16
, 5F004AA01
, 5F004AA03
, 5F004BA04
, 5F004BA06
, 5F004BB11
, 5F004CA02
, 5F004CA03
, 5F004DA00
, 5F004DA04
, 5F004DA23
, 5F045AA08
, 5F045AB04
, 5F045AC01
, 5F045AD06
, 5F045AE19
, 5F045AF07
, 5F045BB02
, 5F045CA13
, 5F045DP02
, 5F045DQ10
, 5F045EB02
, 5F045EB03
, 5F045EH04
, 5F045EH12
, 5F045EH20
