特許
J-GLOBAL ID：200903009743067994

真空処理装置用真空チャンバー

発明者：
浜田 安雄

浜田 安雄 について

, 
咲本 泰

咲本 泰 について


出願人/特許権者：
株式会社アルバック

株式会社アルバック について


代理人 (2件)： 北村 欣一 ,  吉岡 正志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-129754
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335743
出願日： 2003年05月08日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】真空チャンバーを設置した後においても、ユーザーの要望等によって真空チャンバーの形状や大きさを簡易に変更することができるようにする。【解決手段】真空チャンバー1が、長方形状に形成されたチャンバー本体2と、チャンバー本体2の両側面にボルト留めで取り外し自在に密着接合される3角形状の側面枠3a、3bと、チャンバー本体2と側面枠3a、3bのそれぞれの開口している上面に接合される上板6、9a、9bと、チャンバー本体2と側面枠3a、3bのそれぞれの開口している底面に接合される底板7と、に分割自在に構成されているので、ユーザーの要望等によって真空チャンバーの形状や大きさを簡易に変更することができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
真空処理装置に使用される真空チャンバーにおいて、 前記真空チャンバーは、多角形状に形成された枠状のチャンバー本体と、前記チャンバー本体の少なくとも開口した一側面に取り外し自在に密着接合される開口面を有する多角形状の側面枠と、前記チャンバー本体と前記側面枠のそれぞれの開口している上面に接合されるそれぞれの上板と、前記チャンバー本体と前記側面枠のそれぞれの開口している底面に接合されるそれぞれの底板と、に分割自在である、 ことを特徴とする真空チャンバー。
IPC (1件)：
H01L21/68
FI (1件)：
H01L21/68 A
Fターム (7件)：
5F031CA05 ,  5F031MA04 ,  5F031MA28 ,  5F031MA29 ,  5F031NA05 ,  5F031NA07 ,  5F031PA18
引用特許：
審査官引用 (4件)
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