特許

J-GLOBAL ID：200903009871257704

レジスト用剥離液組成物およびこれを用いたレジスト剥離方法

発明者： 田辺 将人 ,  脇屋 和正 ,  小林 政一
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-210886
公開番号（公開出願番号）：特開2000-047400
出願日： 1998年07月27日
公開日（公表日）： 2000年02月18日
要約：

【要約】【課題】 特に液晶パネル素子の製造に好適に使用される、レジスト膜の剥離性に優れ、高温下での保存安定性に優れるレジスト用剥離液組成物およびこれを用いたレジスト剥離方法を提供する。【解決手段】 (a)アルカノールアミン類、(b)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン、(c)糖類、(d)N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルスルホキシドの中から選ばれるいずれか1種以上、および(e)水を含有してなるレジスト用剥離液組成物、およびこれを用いたレジスト剥離方法。

請求項（抜粋）：

(a)アルカノールアミン類、(b)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン、(c)糖類、(d)N-メチル-2-ピロリドン、N,N-ジメチルスルホキシドの中から選ばれるいずれか1種以上、および(e)水を含有してなる、レジスト用剥離液組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (8件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096GA08 ,  2H096HA11 ,  2H096HA17 ,  2H096LA02 ,  2H096LA03 ,  5F046MA02

引用特許：

審査官引用 (4件)

• フォトレジスト剥離剤組成物及び剥離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-205876   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• レジスト用剥離液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-335728   出願人：東京応化工業株式会社
• ポジ型レジスト用剥離液
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-083582   出願人：東京応化工業株式会社
• フォトレジスト剥離剤組成物および剥離方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-010647   出願人：三菱瓦斯化学株式会社