特許
J-GLOBAL ID：200903060752251744

レジスト用剥離液組成物

発明者：
田辺 将人

田辺 将人 について

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脇屋 和正

脇屋 和正 について

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小林 政一

小林 政一 について

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中山 寿昌

中山 寿昌 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 長谷川 洋子 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-335728
公開番号（公開出願番号）：特開平9-152721
出願日： 1995年11月30日
公開日（公表日）： 1997年06月10日
要約：
【要約】【課題】 より過酷な条件のドライエッチング、アッシング、イオン注入等の処理により形成された変質膜の低温での剥離性に優れるとともに、Al、Cu、TiまたはW等の金属膜の形成された基板の腐食防止効果に優れるレジスト用剥離液組成物を提供する。【解決手段】 (a)アルカノールアミン5〜40重量%、(b)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン5〜30重量%、(c)ジエチレングリコールモノアルキルエーテル5〜40重量%、(d)糖類2〜30重量%、および(e)水35〜70重量%からなるレジスト用剥離液組成物。
請求項（抜粋）：
(a)アルカノールアミン5〜40重量%、(b)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン5〜30重量%、(c)ジエチレングリコールモノアルキルエーテル5〜40重量%、(d)糖類2〜30重量%、および(e)水35〜70重量%からなる、レジスト用剥離液組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/42 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/306
FI (5件)：
G03F 7/42 ,  C11D 7/26 ,  C11D 7/32 ,  H01L 21/30 572 B ,  H01L 21/306 D
引用特許：
審査官引用 (4件)
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