特許
J-GLOBAL ID：200903010022151194

レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

発明者：
水谷 一良

水谷 一良 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-026780
公開番号（公開出願番号）：特開2006-215202
出願日： 2005年02月02日
公開日（公表日）： 2006年08月17日
要約：
【課題】 感度と解像性に優れ、更には表面荒れやアウトガスも抑制したレジスト組成物を提供する。【解決手段】 (A)下記一般式(I)で表される酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法。 【化1】一般式(1)中、 Rは脂肪族基またはヘテロ原子を有していてもよい芳香族基を表す。 S1〜S8は各々独立に置換基を表す。a、n、m、l、k、o、p、q、rは各々独立に0〜2の整数を表す。 Xは単結合または2価の連結基を表す。 R1およびR2は各々独立に水素原子または置換基を表す。R1とR2とが互いに連結して単結合または2価の連結基を表しても良い。 Y-、Z-は各々独立に有機スルホン酸アニオンを表す。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A1)下記一般式(1)で表される酸発生剤を含有することを特徴とするレジスト組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (17件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB41 ,  2H025CB42 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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