基板熱処理装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：吉田茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-373628
公開番号（公開出願番号）：特開2000-199688
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】加熱効率がよく光源および反射面の寿命が長い基板熱処理装置を提供する。【解決手段】反射面112bは上側が円筒形状の第1反射面R1、下側が第1反射面R1下端に連続し下側が広がった楕円半球面または放物半球面を伏せた形状の第2反射面R2となっている。第1反射面R1の下端において側方に反射された光も第2反射面R2により下方向に反射されるので、光照射の基板W方向への指向性がよく、基板Wの加熱効率が向上する。

請求項（抜粋）：

保持された基板に対し、光照射手段によって光を照射して熱処理を施す基板熱処理装置であって、前記光照射手段が、光源と、前記光源からの光を反射する反射面と、を有し、前記反射面が、前記基板にほぼ垂直な方向に対称軸を有する円筒状の第1面と、前記第1面の基板側端部において接続するとともに基板側が広がった第2面と、を備えることを特徴とする基板熱処理装置。

IPC (7件)：

F27D 11/02 , F27B 9/06 , H01L 21/31 , H05B 3/00 345 , C21D 1/34 , G03F 7/30 501 , H01L 21/027

FI (8件)：

F27D 11/02 A , F27D 11/02 Z , F27B 9/06 E , H01L 21/31 E , H05B 3/00 345 , C21D 1/34 R , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 567

Fターム (24件)：

2H096AA01 , 2H096AA24 , 2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096CA01 , 3K058AA45 , 3K058AA87 , 3K058BA00 , 3K058CE12 , 3K058CE15 , 3K058EA04 , 4K050AA02 , 4K050BA17 , 4K050CA09 , 4K050CD21 , 4K063AA05 , 4K063CA03 , 4K063FA13 , 5F045AC11 , 5F045AC15 , 5F045BB08 , 5F045DP04 , 5F045EK12 , 5F046KA02

引用特許：

審査官引用 (8件)

面加熱型赤外線放射加熱装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-315682 出願人：株式会社サーモ理工
室内ヒーター装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-142209 出願人：ウシオ電機株式会社, 積水化学工業株式会社
空気調和機の制御方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-270686 出願人：株式会社富士通ゼネラル

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