特許
J-GLOBAL ID：200903010130342281
有機膜の形成方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-371502
公開番号（公開出願番号）：特開2000-195665
出願日： 1998年12月25日
公開日（公表日）： 2000年07月14日
要約：
【要約】【課題】転写を利用した新規な有機膜の形成方法を提供する。【解決手段】基板5の被成膜面50の上に有機膜8を形成する方法である。有機系の膜形成物質31を担持した転写材3を用い、転写材3を基板5の被成膜面50に対面させて配置する。加熱手段2で膜形成物質31を加熱して膜形成物質31を基板5の被成膜面50に転写する。加熱手段2としてはホットプレート、レーザビーム、電子ビームを採用できる。
請求項（抜粋）：
基板の被成膜面の上に有機膜を形成する方法において、有機系の膜形成物質を担持した転写材を前記基板の被成膜面に対面させて配置し、加熱手段で前記膜形成物質を加熱して前記膜形成物質を前記基板の被成膜面に転写することを特徴とする有機膜の形成方法。
IPC (4件)：
H05B 33/10
, C23C 14/04
, C23C 14/12
, H05B 33/14
H05B 33/10
, C23C 14/04 C
, C23C 14/12
, H05B 33/14 A
3K007AB18
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4K029AA25
, 4K029BA62
, 4K029BC07
, 4K029BD10
, 4K029CA01
, 4K029DB20
