特許
J-GLOBAL ID：200903010143466990
有機膜形成用マスク,封止膜形成装置並びに封止膜の形成方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉井 剛
, 吉井 雅栄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-185543
公開番号（公開出願番号）：特開2007-005189
出願日： 2005年06月24日
公開日（公表日）： 2007年01月11日
要約：
【課題】 欠陥のない良好な封止膜を形成できる極めて実用性に秀れた画期的な有機膜形成用マスク,封止膜形成装置並びに封止膜の形成方法を提供することである。【解決手段】 有機材料を入射して有機膜3を基板2上の有機EL素子1に被覆する際の前記開口部7の開口形状を、前記基板2に重合する側となるマスク裏面側端開口部7Aの開口径とマスク表面側端開口部7Bの開口径とを同一開口径とせず、前記マスク裏面側端開口部7Aの開口径が前記マスク表面側端開口部7Bの開口径より大きくなる開口形状に形成し、このマスク裏面側端開口部7Aの前記有機EL素子1からの離反度を、このマスク裏面側端開口部7Aと前記基板2上の有機EL素子1に被覆する前記有機膜3とが接触しない離反度に設定したものである。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
有機EL素子が形成された基板上に、この有機EL素子を被覆するように形成される有機膜と無機膜とを少なくとも一層ずつ積層して成る封止膜の前記有機膜を形成する際、前記基板に重合され、前記基板上の有機EL素子を露出させ有機材料が入射する開口部を有する有機膜形成用マスクであって、有機材料を入射して有機膜を基板上の有機EL素子に被覆する際の前記開口部の開口形状を、前記基板に重合する側となるマスク裏面側端開口部の開口径とマスク表面側端開口部の開口径とを同一開口径とせず、前記マスク裏面側端開口部の開口径が前記マスク表面側端開口部の開口径より大きくなる開口形状に形成し、このマスク裏面側端開口部の前記有機EL素子からの離反度を、このマスク裏面側端開口部と前記基板上の有機EL素子に被覆する前記有機膜とが接触しない離反度に設定したことを特徴とする有機膜形成用マスク。
IPC (3件)：
H05B 33/10
, H05B 33/04
, H01L 51/50
H05B33/10
, H05B33/04
, H05B33/14 A
3K007AB12
, 3K007AB13
, 3K007AB18
, 3K007BB01
, 3K007DB03
, 3K007FA00
, 3K007FA01
, 3K007FA02
出願人引用 (7件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
