特許
J-GLOBAL ID：200903010242454660
高密度コバルトマンガン共沈水酸化ニッケル及びその製造法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高木 千嘉 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-340183
公開番号（公開出願番号）：特開2002-201028
出願日： 2001年11月06日
公開日（公表日）： 2002年07月16日
要約：
【要約】【課題】 高密度コバルトマンガン共沈水酸化ニッケル及びその製造方法に関する。【解決手段】 反応槽内に、不活性ガス雰囲気中または還元剤存在下、コバルト塩およびマンガン塩を含むニッケル塩水溶液、錯化剤、並びにアルカリ金属水酸化物を連続供給し、連続結晶成長させ、連続に取り出すことにより高密度、特にタッピング密度が1.5g/cc以上である高密度コバルトマンガン共沈水酸化ニッケルを得ることができる。
請求項（抜粋）：
タッピング密度が1.5g/cc以上である高密度コバルトマンガン共沈水酸化ニッケル。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (12件)：
4G048AA03
, 4G048AB02
, 4G048AC06
, 4G048AD06
, 4G048AE05
, 5H050AA02
, 5H050AA07
, 5H050BA17
, 5H050CA08
, 5H050CA09
, 5H050HA02
, 5H050HA08
