特許
J-GLOBAL ID：200903010325868989

基体処理方法及び基体処理装置

発明者：
嵯峨 幸一郎

嵯峨 幸一郎 について


出願人/特許権者：
ソニー株式会社

ソニー株式会社 について


代理人 (2件)： 角田 芳末 ,  伊藤 仁恭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-014003
公開番号（公開出願番号）：特開2008-182034
出願日： 2007年01月24日
公開日（公表日）： 2008年08月07日
要約：
【課題】超臨界流体を媒体として被処理基体を処理する処理方法において、薬液を混合した超臨界流体を処理槽に導入したときの、処理槽の圧力変動を防止する。【解決手段】本発明の基体処理方法は、超臨界流体を処理槽22に直接供給して処理槽22を所定の処理圧力とした後、混合部25から薬液を混合した超臨界流体を処理槽22に導入するようになす。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
薬液を混合した超臨界流体を処理槽に導入して該処理槽内の被処理基体を処理する基体処理方法であって、 超臨界流体を前記処理槽に直接供給して前記処理槽を所定の処理圧力とした後、 前記混合部から前記薬液を混合した超臨界流体を前記処理槽に導入する ことを特徴とする基体処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/306 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/027
FI (5件)：
H01L21/306 J ,  H01L21/304 645Z ,  H01L21/304 647Z ,  H01L21/304 648G ,  H01L21/30 572B
Fターム (13件)：
5F043AA22 ,  5F043AA29 ,  5F043BB15 ,  5F043BB21 ,  5F043BB27 ,  5F043CC16 ,  5F043DD06 ,  5F043DD07 ,  5F043DD30 ,  5F043EE03 ,  5F043EE33 ,  5F046MA02 ,  5F046MA10
引用特許：
出願人引用 (6件)
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