特許
J-GLOBAL ID:200903063075254714
表面処理方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
船橋 國則
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-021097
公開番号(公開出願番号):特開2003-224099
出願日: 2002年01月30日
公開日(公表日): 2003年08月08日
要約:
【要約】【課題】 超臨界流体を用いた処理のみによって確実に残渣物の除去を行うことが可能な表面処理方法を提供する。【解決手段】 構造体が形成された表面を超臨界流体4によって処理する表面処理方法であって、アンモニウム水酸化物,アルカノールアミン,フッ化アミン,フッ化水素酸等を溶解助剤5として超臨界流体4に添加することを特徴としている。また、超臨界流体4には、溶解助剤5と共に界面活性物質6を添加しても良い。界面活性物質6には、極性溶剤を用いても良い。
請求項(抜粋):
構造体が形成された表面を超臨界流体によって処理する表面処理方法であって、下記式(1)に示すアンモニウム水酸化物を溶解助剤として超臨界流体に添加することを特徴とする表面処理方法。【化1】ただし、式(1)中R1〜R4はそれぞれ独立に、アルキル基、ヒドロキシ置換アルキル基、アリール基、または水素を示す。
IPC (5件):
H01L 21/304 641
, H01L 21/304 647
, B81C 5/00
, C11D 7/50
, H01L 21/308
FI (5件):
H01L 21/304 641
, H01L 21/304 647 Z
, B81C 5/00
, C11D 7/50
, H01L 21/308 G
Fターム (12件):
4H003DA14
, 4H003DA15
, 4H003DC03
, 4H003EA31
, 4H003EB13
, 4H003EB14
, 4H003EB19
, 4H003ED32
, 5F043AA01
, 5F043BB28
, 5F043DD06
, 5F043GG10
引用特許: