特許
J-GLOBAL ID：200903010333392675
マスク・ブランク及びそれを製造する方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
浅村 皓
, 浅村 肇
, 森 徹
, 岩本 行夫
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-582503
公開番号（公開出願番号）：特表2005-521915
出願日： 2003年04月01日
公開日（公表日）： 2005年07月21日
要約：
本発明の一態様はマスク・ブランクを製造する方法を含む。基板を設ける。基板上にマスキング層を形成する。書込み波長に敏感な膜に戻る書込み波長の反射率が4%未満になるように基板上に材料の少なくとも1つの層を形成する。本発明の他の態様は詳細な説明、図及び特許請求の範囲に反映される。
請求項（抜粋）：
基板を設けるステップと、
前記基板上にマスキング層を形成するステップと、
書込み波長に敏感な膜に戻る前記書込み波長の反射率が4%未満になるように前記基板上に材料の少なくとも1つの層を形成するステップと
を備える、マスク・ブランクを製造する方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/14 F
, G03F7/11 503
2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB08
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025AD03
, 2H025DA34
, 2H025DA35
, 2H025DA40
, 2H025FA41
, 2H095BB05
, 2H095BB25
, 2H095BC13
, 2H095BC20
