特許
J-GLOBAL ID：200903068663371869
マスクブランク、及びマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-304025
公開番号（公開出願番号）：特開2003-107675
出願日： 2001年09月28日
公開日（公表日）： 2003年04月09日
要約：
【要約】【課題】 化学増幅型レジストを塗布したマスクブランクスにおいて、レジストパターン形成後パターン底部に発生する裾引き状突起部の発生を抑えることのできるマスクブランクス等を提供する。【解決手段】 遮光性膜3上に化学増幅型レジスト膜4を形成し、レジストパターン4aを形成する際に、少なくとも前記遮光性膜3の表面近傍の膜密度よりも高い膜密度を有し、前記レジスト膜4の失活を抑制する失活抑制膜(図示せず)が形成されていることを特徴とするマスクブランク。
請求項（抜粋）：
透明基板上に遮光性膜を有するマスクブランクであって、前記遮光性膜上に化学増幅型レジスト膜を形成し、レジストパターンを形成する際に、少なくとも前記遮光性膜の表面近傍の膜密度よりも高い膜密度を有し、前記レジスト膜の失活を抑制する失活抑制膜が形成されていることを特徴とするマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 Z
, G03F 1/08 G
, H01L 21/30 502 P
2H095BB10
, 2H095BB14
, 2H095BC05
, 2H095BC14
