特許
J-GLOBAL ID:200903010421142778

ナノプリント装置、及び微細構造転写方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 平木 祐輔
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-078072
公開番号(公開出願番号):特開2004-288811
出願日: 2003年03月20日
公開日(公表日): 2004年10月14日
要約:
【課題】ナノプリント法において、プレス圧力の低圧化と加圧時間の短縮しパターン転写を高精度に行うことを目的とする。【解決手段】プレス装置を用い、基板上に微細構造を形成するためのナノプリント装置において、前記ナノプリント装置は、スタンパに超音波で振動させる超音波発生機構を有することを特徴とするナノプリント装置、及び該装置を用いる微細構造転写方法。【選択図】 図2
請求項(抜粋):
基板上に微細構造を形成するために、基板と、表面に微細な凹凸が形成されたスタンパを、加熱・加圧するナノプリント装置において、前記ナノプリント装置は、前記スタンパを超音波で振動させる超音波発生機構を有することを特徴とするナノプリント装置。
IPC (2件):
H01L21/027 ,  G11B5/84
FI (2件):
H01L21/30 502D ,  G11B5/84 Z
Fターム (9件):
5D112AA02 ,  5D112AA18 ,  5D112AA24 ,  5D112BA03 ,  5D112BA10 ,  5D112GA02 ,  5D112GA16 ,  5D112GB04 ,  5F046AA28
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (6件)
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