特許
J-GLOBAL ID:200903010498586482

高分子系廃棄物の誘導加熱式減容処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 篠部 正治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-041150
公開番号(公開出願番号):特開2001-235125
出願日: 2000年02月18日
公開日(公表日): 2001年08月31日
要約:
【要約】【課題】従来の高分子系廃棄物を無酸素状態で乾留する減容処理は、塩素系高分子の熱分解時に発生する塩化水素ガスを冷却塔で冷却し、生成した油を凝縮させアルカリ剤で洗浄除去しているが、生成油に塩化水素が混入するので再利用が難しく、また被乾留廃棄物に塩化水素除去剤を混合すると減容率が悪くなるという問題があった。本発明はこの問題を解決して塩素分を含まない乾留生成物が得られる誘導加熱式減容処理装置を提供することにある。【解決手段】高分子系廃棄物を150〜300°Cで脱塩素処理をしたのち,脱塩素された高分子系廃棄物をさらに500〜600°Cで乾留炭化処理することで,減容率を確保しつつ乾留生成物中の塩素を低減させることができる。
請求項(抜粋):
一般廃棄物あるいは産業廃棄物として排出される高分子系廃棄物の誘導加熱式の減容処理装置において、前記高分子系廃棄物を脱塩素処理する誘導加熱コイルとスクリュー式フィーダーより成る前段の誘導加熱部と、脱塩素された前記高分子系廃棄物を脱塩素の温度より高い温度で乾留炭化する誘導加熱コイルと乾留キルンより成る後段の誘導加熱部とを、直列に接続したことを特徴とする高分子系廃棄物の誘導加熱式減容処理装置。
IPC (7件):
F23G 5/027 ZAB ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 302 ,  B09B 3/00 ,  C08J 11/12 ZAB ,  F23G 5/02 ZAB ,  F23G 5/14 ZAB
FI (7件):
F23G 5/027 ZAB Z ,  B09B 3/00 302 A ,  C08J 11/12 ZAB ,  F23G 5/02 ZAB Z ,  F23G 5/14 ZAB F ,  B09B 3/00 ZAB ,  B09B 3/00 303 G
Fターム (51件):
3K061AA07 ,  3K061AB02 ,  3K061AC13 ,  3K061BA04 ,  3K061BA05 ,  3K061BA08 ,  3K061CA13 ,  3K061FA10 ,  3K065AA07 ,  3K065AB02 ,  3K065AC13 ,  3K065BA04 ,  3K065BA05 ,  3K065BA08 ,  3K065CA20 ,  3K078AA04 ,  3K078AA05 ,  3K078AA08 ,  3K078BA03 ,  3K078BA08 ,  3K078BA22 ,  3K078BA26 ,  3K078CA02 ,  4D004AA07 ,  4D004AA08 ,  4D004AB06 ,  4D004AC05 ,  4D004BA03 ,  4D004BA06 ,  4D004BB03 ,  4D004CA22 ,  4D004CA24 ,  4D004CA25 ,  4D004CA26 ,  4D004CA27 ,  4D004CA29 ,  4D004CB09 ,  4D004CB33 ,  4D004DA03 ,  4D004DA06 ,  4F301AA03 ,  4F301AA11 ,  4F301AA21 ,  4F301CA09 ,  4F301CA25 ,  4F301CA26 ,  4F301CA36 ,  4F301CA46 ,  4F301CA52 ,  4F301CA68 ,  4F301CA72
引用特許:
審査官引用 (5件)
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