特許

J-GLOBAL ID：200903010746418079

洗浄処理装置

発明者： 高島 敏英 ,  田島 智早 ,  久保田 光 ,  田中 裕司 ,  古賀 隆一 ,  西田 紀彦 ,  盛岡 崇 ,  寺田 尚司
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社
代理人 (1件)： 中本 菊彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-093186
公開番号（公開出願番号）：特開平11-290799
出願日： 1998年04月06日
公開日（公表日）： 1999年10月26日
要約：

【要約】【課題】 短時間に洗浄液を所定温度に設定して、処理液の交換時間の短縮及びスループットの向上を図れるようにする。【解決手段】 半導体ウエハWを浸漬処理する処理槽20と、この処理槽20内に供給する純水を貯留すると共に秤量する秤量槽30と、この秤量槽30に純水を供給する純水供給源32とを具備する洗浄処理装置において、秤量槽30に、この秤量槽30内に貯留される純水を所定温度に保温するカートリッジヒータ31を具備し、秤量槽30と純水供給源32とを接続する管路33,36に、純水を所定温度に加熱する温水器34を介設する。これにより、純水供給源32から秤量槽30内に供給される純水を、温水器34によって予め所定温度に加熱して秤量槽30内に供給することができ、秤量槽30内に貯留(秤量)された純水をカートリッジヒータ31によって所定温度に保温して、待機することができる。

請求項（抜粋）：

被処理体を浸漬処理する処理槽と、この処理槽内に供給する洗浄液を貯留すると共に秤量する秤量槽と、この秤量槽に洗浄液を供給する洗浄液供給源とを具備する洗浄処理装置において、上記秤量槽に、この秤量槽内に貯留される洗浄液を所定温度に保温する保温手段を具備し、上記秤量槽と洗浄液供給源とを接続する管路に、洗浄液を所定温度に加熱する加熱手段を介設してなる、ことを特徴とする洗浄処理装置。

IPC (2件)：

B08B 3/04 ,  H01L 21/304 648

FI (2件)：

B08B 3/04 B ,  H01L 21/304 648 G

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭61-272935
  
• 自動洗浄機の薬液秤量装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-211196   出願人：ソニー株式会社
• 基板処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-215128   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 洗浄装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-303536   出願人：松下電器産業株式会社