特許
J-GLOBAL ID：200903010767908670
格子テストパターン及びオーバレイ計測法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
石田 敬
, 鶴田 準一
, 南山 知広
, 西山 雅也
, 樋口 外治
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-568415
公開番号（公開出願番号）：特表2004-519716
出願日： 2002年02月25日
公開日（公表日）： 2004年07月02日
要約：
リソグラフィプロセスにおけるバイアス又はオーバレイ誤差を計測する方法。この計測法は、1組の回折テストパターン、分光楕円偏光計又は分光反射率計による光学検査技術、テストパターンプロフィル解析の方法を含む。本発明は、テストパターンとして1組の回折格子(10)を使用し、薄膜計測装置として分光楕円偏光計及び分光反射率計等を使用する。2つの連続する層におけるテストパターンのプロフィルを解析するのである。オーバレイ情報は、プロフィルデータ処理の後に得られる。本発明の第1の態様では、第1層マスクのクリアラインの中心に第2層マスクを置いたラインオンラインのオーバレイ格子テストパターン構造を開示する。本発明の第2の態様では、第1マスクのダークラインの中心に第2層マスクを置いたラインインラインのオーバレイ格子テストパターン構造を開示する。
請求項（抜粋）：
ラインオンライン構造であって、
複数のダークライン及び複数のクリアラインを有し、各ダークラインがクリアラインに隣接する第1マスク、及び
複数のダークライン及び複数のクリアラインを有し、各ダークラインが前記第1マスクのダークラインの中心に位置する前記第2マスクを有するラインオンライン構造。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F1/08 D
, G03F1/08 S
, H01L21/30 502P
2H095BB02
, 2H095BB34
, 2H095BB36
, 2H095BD11
, 2H095BD23
