特許
J-GLOBAL ID:200903010816930007

金属膜作製装置及び金属膜作製方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (4件): 光石 俊郎 ,  光石 忠敬 ,  田中 康幸 ,  松元 洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-349285
公開番号(公開出願番号):特開2006-161060
出願日: 2004年12月02日
公開日(公表日): 2006年06月22日
要約:
【課題】 成膜される膜厚の均一性が優れた金属膜作製装置及び金属膜作製方法を提供する。【解決手段】 チャンバ1に基板3を設置し、チャンバ1内に配設された金属部材11の近傍に、ハロゲンを含有する原料ガスを供給すると共に、原料ガスのプラズマ15を発生させて、ハロゲンのラジカルを生成し、ハロゲンのラジカルにより、金属部材11をエッチングして、金属部材に含まれる金属成分とハロゲンからなる前駆体16を生成し、金属部材11より低い温度に基板3を制御すると共に、基板3の面内の温度分布を、周縁部で低く、中央部で高くし、基板3に前駆体16を吸着させると共に、吸着された前駆体16をハロゲンのラジカルにより還元して、金属膜を作製する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
チャンバと、 前記チャンバの底部に設けられ、内部に流路が形成された支持台と、 前記支持台上に固着され、基板が吸着される吸着台と、 前記支持台の流路に接続され、前記流路に所定温度に制御された冷媒を供給する冷媒供給手段と、 前記チャンバの上方に設けられ、前記基板に対向して設けられた金属部材と、 前記金属部材の近傍に、ハロゲンを含有する原料ガスを供給する原料ガス供給手段と、 前記チャンバ内部に供給された前記原料ガスのプラズマを発生させて、前記ハロゲンのラジカルを生成すると共に、前記金属部材をエッチングして、前記金属部材に含まれる金属成分と前記ハロゲンからなる前駆体を生成するプラズマ発生手段とを備え、 前記支持台の流路は、前記支持台の周縁部に設けた複数の第1流路と、前記支持台の中心に設けた1つの第2流路と、前記支持台の上面に平行に放射状に形成され、前記複数の第1流路と前記1つの第2流路とを連通する複数の第3流路とを有し、 前記冷媒供給手段から供給される冷媒が、前記複数の第1流路から前記複数の第3流路を経て、前記1つの第2流路へ流通されることを特徴とする金属膜作製装置。
IPC (1件):
C23C 16/52
FI (1件):
C23C16/52
Fターム (14件):
4K030AA02 ,  4K030BA01 ,  4K030BA17 ,  4K030BA18 ,  4K030BA20 ,  4K030CA04 ,  4K030CA12 ,  4K030FA04 ,  4K030GA01 ,  4K030JA10 ,  4K030KA12 ,  4K030KA19 ,  4K030KA26 ,  4K030LA15
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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