特許
J-GLOBAL ID：200903019054424254
ウエハ支持装置及び金属膜作製装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
光石 俊郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-041150
公開番号（公開出願番号）：特開2003-239074
出願日： 2002年02月19日
公開日（公表日）： 2003年08月27日
要約：
【要約】【課題】 基板3の全面にわたり均一でしかも精度よく温度制御を行なう。【解決手段】 熱伝達率が高いHeガスを温度調整器34で所定温度に制御(維持)して基板3と静電チャック25との間に供給し、温度制御手段6により温度が調整された支持台2の熱を基板3に均一にしかも精度よく伝達し、基板3の全面にわたり均一でしかも精度よく温度制御を行なう。
請求項（抜粋）：
ウエハが載置面に載置される支持台を備え、ウエハの載置面に希ガスを供給する希ガス供給系を備えたこをとを特徴とするウエハ支持装置。
Fターム (11件)：
4K030AA02
, 4K030BA01
, 4K030CA17
, 4K030EA01
, 4K030FA01
, 4K030GA02
, 4K030JA10
, 4K030KA24
, 4K030KA26
, 4K030KA30
, 4K030KA41
