特許

J-GLOBAL ID：200903011016282623

光学要素上の付着物の除去方法、リソグラフィ装置、デバイス製造方法及びこれによって製造されたデバイス

発明者： レヴィヌス ピーター バッカー ,  ファディム イェフゲンイェフィヒ バニーネ ,  ヨハネス クリスティアーン レオネルデュス フランケン ,  ヨハネス フーバートス ジョセフィーナ ムーア ,  カロルス イダ マリア アントニウス シュペー ,  アーノルド コーネリス ヴァッシンク ,  ポール ピーター アンナ アントニウス ブロム
出願人/特許権者： エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  森 徹 ,  吉田 裕
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-028417
公開番号（公開出願番号）：特開2006-222426
出願日： 2006年02月06日
公開日（公表日）： 2006年08月24日
要約：

【課題】リソグラフィ装置の光学要素上の付着物を除去する方法、リソグラフィ装置を提供する。【解決手段】リソグラフィ装置の放射コレクタ上付着物の除去方法は放射コレクタの端にガス・バリヤを配置し、それにより放射コレクタ・エンクロージャ容積を与える工程と、ハロゲン含有ガスと、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスとから選択されたガスを、エンクロージャ容積に供給する工程と、付着物の少なくとも一部を放射コレクタから除去する工程とを含む。リソグラフィ装置は放射コレクタと、放射コレクタを取り囲む円周覆いと、それにより放射コレクタ・エンクロージャ容積を与える放射コレクタ端のガス・バリヤとを含む。放射コレクタは円周覆い及びガス・バリヤにより取り囲まれる。注入口は放射コレクタ・エンクロージャ容積にガスを供給し、排出口は放射コレクタ・エンクロージャ容積からガスを除去する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置の放射コレクタ上の付着物の除去方法であって、 前記放射コレクタの端にガス・バリヤを配置し、それによって放射コレクタ・エンクロージャ容積を与える段階と、 ハロゲンを含むガスと、水素、ジュウテリウム及び/又はトリチウムを含むガスとからなるグループのうちの1種又は数種のガスから選択されたガスを、前記放射コレクタ・エンクロージャ容積に供給する段階と、 前記付着物の少なくとも一部分を前記放射コレクタから除去する段階とを含む方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (2件)：

H01L21/30 531S ,  G03F7/20 521

Fターム (4件)：

5F046GA03 ,  5F046GA09 ,  5F046GB09 ,  5F046GC03

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 極紫外線リソグラフィー用の自己浄化光学装置
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2002-554754   出願人：イーユーヴィーリミテッドリアビリティコーポレーション
• 極端紫外光光源装置及び極端紫外光光源装置で発生するデブリの除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-015182   出願人：ウシオ電機株式会社
• リソグラフィ投影装置、デバイス製造方法、およびそれらによって製造されたデバイス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-262809   出願人：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ, コニンクリユケフィリップスエレクトロニクスエヌ.ブイ.