特許

J-GLOBAL ID：200903011035988618

化合物及び該化合物を含有するポジ型レジスト組成物

発明者： 藤森 亨
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-027161
公開番号（公開出願番号）：特開2004-238304
出願日： 2003年02月04日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：

【課題】コンタクトホールの真円性向上、矩形なプロファイルの為にポジ型レジスト組成物に好適に使用される化合物、並びに該化合物を含有する、コンタクトホールの真円性、プロファイルが改良されたポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】特定構造の化合物、並びに(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)アルカリ現像液に対して不溶性あるいは難溶性であり、酸の作用でアルカリ現像液に可溶性となる樹脂及び(C)特定構造の化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される化合物。

IPC (4件)：

C07D319/06 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

C07D319/06 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (19件)：

2H025AA03 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC03 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4C022GA04 ,  4C022GA13

引用特許：

審査官引用 (3件)

• ポジ型化学増幅レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-028336   出願人：富士写真フイルム株式会社
• 遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-370232   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型フォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-169802   出願人：富士写真フイルム株式会社

引用文献：

審査官引用 (3件)

• Collection of Czechoslovak Chemical Communications (1995), 60(4), 605-611
• Journal of Heterocyclic Chemistry (1993), 30(1), 105-107
• CAPLUS Accession no 1937:5182(CA Accession no. 31:5182)( Science and Culture (1936), 2, 162) Retr