特許
J-GLOBAL ID：200903011074587930

欠陥検出方法および欠陥検出装置

発明者：
小島 広一

小島 広一 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人樹之下知的財産事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-241968
公開番号（公開出願番号）：特開2009-074828
出願日： 2007年09月19日
公開日（公表日）： 2009年04月09日
要約：
【課題】被検査物の欠陥検出の感度を向上することができる欠陥検出方法を提供する。【解決手段】欠陥検出方法は、被検査物の撮像画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程と、その工程で得られた各画素の欠陥強調値に基づいて欠陥を検出する欠陥検出工程を有する。欠陥強調処理工程は、検査対象画素を順次選定する検査対象画素選定工程ST21と、検査対象画素の周囲に所定距離離れて複数配置された比較対象画素を、複数の比較対象画素群に分けて設定する比較対象画素群設定工程ST22と、比較対象画素群の各比較対象画素と検査対象画素の各輝度値の差である輝度差データを求め、その値が最小となる最小輝度差を比較対象画素群毎に求める最小輝度差算出工程ST23と、比較対象画素群毎に算出された最小輝度差のうち、値が最大となる最小輝度差を前記検査対象画素の欠陥強調値とする欠陥強調値算出工程ST24とを備える。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
被検査物を撮像した撮像画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程と、 前記欠陥強調処理工程で得られた各画素の欠陥強調値に基づいて欠陥を検出する欠陥検出工程とを有し、 前記欠陥強調処理工程は、 前記撮像画像において検査対象画素を順次選定する検査対象画素選定工程と、 選定された検査対象画素の中心から所定距離離れた比較対象画素を検査対象画素の周囲に複数配置し、これらの比較対象画素を複数の比較対象画素群に分けて設定する比較対象画素群設定工程と、 比較対象画素群に含まれる各比較対象画素の輝度値と、前記検査対象画素の輝度値との差である輝度差データを求め、それらの輝度差データのうち、値が最小となる最小輝度差を比較対象画素群毎に求める最小輝度差算出工程と、 比較対象画素群毎に算出された最小輝度差のうち、値が最大となる最小輝度差を前記検査対象画素の欠陥強調値とする欠陥強調値算出工程とを備えることを特徴とする欠陥検出方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01M 11/00 ,  G02F 1/13
FI (3件)：
G01N21/956 Z ,  G01M11/00 T ,  G02F1/13 101
Fターム (21件)：
2G051AA51 ,  2G051AA73 ,  2G051AB02 ,  2G051CA04 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA12 ,  2G051EA25 ,  2G051EB01 ,  2G051EC01 ,  2G051ED03 ,  2G051ED07 ,  2G051FA01 ,  2G086EE10 ,  2H088FA11 ,  2H088FA12 ,  2H088FA13 ,  2H088FA30 ,  2H088MA16 ,  2H088MA20
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (2件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM