特許
J-GLOBAL ID：200903093779965760
欠陥検出方法および欠陥検出装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
木下 實三
, 中山 寛二
, 石崎 剛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-161412
公開番号（公開出願番号）：特開2007-086056
出願日： 2006年06月09日
公開日（公表日）： 2007年04月05日
要約：
【課題】被検査物の隅部であっても欠陥を検出でき、かつ、欠陥を容易に検出することができる欠陥検出方法及び装置を提供する。【解決手段】欠陥検出方法は、同一繰り返しパターンを有する被検査物を撮像して画像を取得する画像取得工程と、取得した画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程とを有する。欠陥強調処理工程ST3は、撮像画像において検査対象点を順次選定する検査対象点選定工程ST31と、選定された検査対象点の輝度値と、その周囲に複数配置された比較対象点の輝度値との差をそれぞれ求め、各輝度差データのうち、その値が最小となるものを選択して前記検査対象点の欠陥強調値とする欠陥強調値算出工程ST32とを有する。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
同一繰り返しパターンを有する被検査物を撮像して画像を取得する画像取得工程と、
取得した画像に対して欠陥強調処理を行う欠陥強調処理工程とを有し、
前記欠陥強調処理工程は、
撮像画像において検査対象点を順次選定する検査対象点選定工程と、
選定された検査対象点の輝度値から、その周囲に複数配置された比較対象点の輝度値を引いてそれぞれの差を求め、各輝度差データのうち、値が最小となるものを選択して前記検査対象点の欠陥強調値とする欠陥強調値算出工程とを備えることを特徴とする欠陥検出方法。
IPC (3件)：
G01M 11/00
, G01N 21/956
, G02F 1/13
G01M11/00 T
, G01N21/956 Z
, G02F1/13 101
2G051AA51
, 2G051AA73
, 2G051AA90
, 2G051AB02
, 2G051CA04
, 2G051EA08
, 2G051EA12
, 2G051EB01
, 2G051EC01
, 2G051ED03
, 2G051ED14
, 2G086EE10
, 2H088FA12
, 2H088FA13
, 2H088FA14
, 2H088FA30
, 2H088HA08
, 2H088MA18
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (3件)
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