特許
J-GLOBAL ID：200903011107454214
現像処理方法および現像処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-214018
公開番号（公開出願番号）：特開2003-109897
出願日： 2002年07月23日
公開日（公表日）： 2003年04月11日
要約：
【要約】【課題】 露光パターンを現像する現像処理において最終の乾燥時にパターン倒れが発生し難い現像処理方法を提供すること。【解決手段】 基板W上の露光後のレジスト膜に現像液を供給して露光パターンを現像する現像工程(ST2,ST3)と、現像パターンが形成されたレジスト膜に水系洗浄液を供給する工程(ST6)と、水系洗浄液が供給されたレジスト膜に実質的にレジストを溶解せず、水よりも表面張力が小さい液剤を供給する工程(ST7)と、基板Wを回転させて乾燥する工程(ST8)とにより現像処理が行われる。
請求項（抜粋）：
基板上の露光後のレジスト膜に現像液を供給して露光パターンを現像する現像工程と、現像パターンが形成されたレジスト膜に水系洗浄液を供給する工程と、前記水系洗浄液が供給されたレジスト膜に、実質的にレジストを溶解せず、水よりも表面張力が小さい液剤を供給する工程と、前記基板を回転させて乾燥する工程とを具備することを特徴とする現像処理方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/30 502
, G03F 7/32 501
G03F 7/30 502
, G03F 7/32 501
, H01L 21/30 569 F
, H01L 21/30 569 C
2H096AA25
, 2H096GA18
, 2H096LA25
, 2H096LA30
, 5F046LA01
, 5F046LA03
, 5F046LA12
, 5F046LA14
