新規スルホン酸塩、スルホン酸オニウム塩及びスルホン酸誘導体とその製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：花田吉秋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-145730
公開番号（公開出願番号）：特開2008-297255
出願日： 2007年05月31日
公開日（公表日）： 2008年12月11日
要約：

【課題】炭素数5以上のパーフルオロアルカンスルホン酸を含まずに、十分に強い酸を発生する酸発生剤を提供する。更には、ArFエキシマレーザー光に対して高感度で、露光時の露光量のズレに対しても解像性の劣化を伴わない、露光余裕度を有するレジスト組成物を構成する酸発生剤を提供する。【解決手段】下記一般式(2)で示されるスルホン酸オニウム塩によって、前記課題は解決する。(式中、Rは置換もしくは非置換の炭素数1〜20の直鎖状、分岐状又は環状のアルキル基、置換もしくは非置換の炭素数6〜15のアリール基又は炭素数4〜15のヘテロアリール基を示す。) 一般式(2)で示されるスルホン酸オニウム塩は3,3,4-トリフルオロ-4-(トリフルオロメチル)-1,2-オキサチエタン-2,2-ジオキシドを出発原料に用い、アルコーリシス(第1工程)、加水分解(第2工程)、塩交換(第3工程)の3工程で製造できる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(6)で示されるスルホン酸塩。

IPC (11件)：

C07C 309/17 , G03F 7/004 , C07C 381/12 , C07C 303/32 , C07C 303/44 , C07D 207/48 , C07D 209/48 , C07D 491/08 , C07D 209/72 , C07D 221/14 , G03F 7/039

FI (11件)：

C07C309/17 , G03F7/004 503A , C07C381/12 , C07C303/32 , C07C303/44 , C07D207/48 , C07D209/48 Z , C07D491/08 , C07D209/72 , C07D221/14 , G03F7/039 601

Fターム (38件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BF02 , 2H025BF15 , 2H025BG00 , 2H025FA10 , 2H025FA12 , 2H025FA17 , 4C034CG10 , 4C050AA03 , 4C050BB04 , 4C050CC16 , 4C050DD07 , 4C050EE01 , 4C050FF01 , 4C050GG03 , 4C050HH01 , 4C069AC36 , 4C069BC10 , 4C204CB04 , 4C204CB19 , 4C204DB30 , 4C204EB03 , 4C204FB33 , 4C204GB01 , 4H006AA01 , 4H006AA02 , 4H006AB92 , 4H006AC60 , 4H006AC61 , 4H006AD16 , 4H006BB14 , 4H006BB21

引用特許：

出願人引用 (7件)

光感応性酸発生剤およびそれらを含むフォトレジスト
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-545309 出願人：ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー.
酸発生剤、スルホン酸、スルホン酸誘導体および感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-189133 出願人：JSR株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-132546 出願人：富士写真フイルム株式会社

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審査官引用 (4件)

化学増幅型レジスト組成物の酸発生剤用の塩
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-093734 出願人：住友化学株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-039501 出願人：住友化学工業株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2001-132546 出願人：富士写真フイルム株式会社

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引用文献：

審査官引用 (1件)

旧東ドイツ専用特許第295421号公報

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