特許
J-GLOBAL ID：200903011191305008
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
, 濱田 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-334830
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099556
出願日： 2003年09月26日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】PEB温度依存性が小さく、良好なプロファイルを示すポジ型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および(B)下記一般式(S)で表されるカチオン構造を含有する、活性光線または放射線の照射により式(I)で表されるスルホン酸を発生する化合物、を含有するポジ型レジスト組成物。〔式(I)中、A1はn価の連結基を表す。A2は単結合または2価の脂肪族基を表す。但し、A1で表される基およびA2で表される基の少なくとも1つはフッ素原子を含有する。nは2〜4の整数を表す。一般式(S)において、Arはアリール基を表す。Y1、Y2はアルキル基またはシクロアルキル基を表す。Y1とY2が結合して単環または多環の環構造を形成してもよく、その環内にエーテル結合、スルフィド結合、ケトン構造を含有してもよい。〕【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、および
(B)下記一般式(S)で表されるカチオン構造を含有する、活性光線または放射線の照射により式(I)で表されるスルホン酸を発生する化合物、
を含有するポジ型レジスト組成物。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (12件)：
2H025AA02
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025FA17
出願人引用 (3件)
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フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願平9-135254
出願人：住友化学工業株式会社
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レジスト材料
公報種別：公開公報
出願番号：特願平10-195065
出願人：信越化学工業株式会社
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感放射線性樹脂組成物
公報種別：公開公報
出願番号：特願平8-219125
出願人：日本合成ゴム株式会社
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