特許
J-GLOBAL ID：200903011225316063
光ファイバグレーティング、光ファイバグレーティングの製造方法及び光ファイバグレーティングの製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-197311
公開番号（公開出願番号）：特開2002-148453
出願日： 2001年06月28日
公開日（公表日）： 2002年05月22日
要約：
【要約】【課題】 光ファイバグレーティングの光学特性を精密かつ効率良く向上させる方法および装置を提供する。【解決手段】 好ましくは水素添加工程、所定の周期で紫外光を照射してグレーティング部を形成するグレーティング形成工程工程および好ましくは脱水素工程後に、グレーティング部全体に対して一様に紫外光を照射する紫外光一様照射処理および加熱トリミング処理とを適宜組み合わせて光学特性を調整し、最後に加熱エージングを行う。
請求項（抜粋）：
光ファイバの長手方向にそって所定の周期で紫外光を照射することにより周期的な屈折率分布を有するグレーティング部を形成し、必要な場合は脱水素処理を行った後、グレーティング部全体にわたって紫外光を照射する紫外光一様照射処理を少なくとも1回以上行い、最後にグレーティング部の光学特性を安定させるための加熱エージング処理を行うことを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法。
IPC (3件)：
G02B 6/10
, G02B 5/18
, G02B 6/16
G02B 6/10 C
, G02B 5/18
, G02B 6/16
2H049AA02
, 2H049AA33
, 2H049AA44
, 2H049AA45
, 2H049AA46
, 2H049AA51
, 2H049AA59
, 2H049AA62
, 2H049AA70
, 2H050AB05
, 2H050AC82
, 2H050AC84
