特許

J-GLOBAL ID：200903011288954450

露光方法

発明者： 西村 靖紀 ,  桶谷 大亥 ,  楢木 剛
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 平木 祐輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-365004
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183844
出願日： 1999年12月22日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】 走査露光の回数を減らしてスループットの向上をはかる。【解決手段】 デバイスのサイズ及び基板14のサイズによっては基板14を基板ホルダー15aに対し横向きに置く(基板の長辺を基板ホルダーの短辺に平行にして置く)ことを許容する。このとき、基板14の有効露光領域外の領域が基板ホルダーからはみ出すようにして置いても構わない。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたマスクを保持したマスクステージと矩形の基板を保持した矩形の基板ホルダーとを第1方向に移動させて前記マスクのパターンを前記基板に露光する露光方法において、前記基板ホルダーの短辺より長い長辺を有する基板を、該基板の長辺方向が前記基板ホルダーの短辺方向にほぼ一致するようにして前記基板ホルダー上に配設するステップと、前記マスクステージと前記基板ホルダーとを前記第1方向に移動させて前記基板の第1領域に前記マスクのパターンを露光するステップと、前記基板ホルダーを前記第1方向とほぼ直交する第2方向に移動させるステップと、前記マスクステージと前記基板ホルダーとを前記第1方向に移動させて、前記第2方向に前記第1領域と隣接する前記基板の第2領域に前記マスクのパターンを露光するステップとを含むことを特徴とする露光方法。

IPC (3件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 501 ,  G03F 7/22 Z ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 518

Fターム (14件)：

2H097AB09 ,  2H097GB02 ,  2H097KA03 ,  2H097KA13 ,  2H097KA28 ,  2H097LA12 ,  2H097LA20 ,  5F046AA05 ,  5F046AA26 ,  5F046BA03 ,  5F046CC03 ,  5F046CC17 ,  5F046EB03 ,  5F046FC05

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 走査型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-214505   出願人：株式会社ニコン
• 感材吸着装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-078510   出願人：大日本スクリーン製造株式会社
• 走査型露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-030599   出願人：株式会社ニコン