走査型露光装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：猪熊克彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-030599
公開番号（公開出願番号）：特開平11-212266
出願日： 1998年01月27日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：

【要約】【課題】マスクホルダの大型化を招くことなく、しかも基板ステージのフットプリントが狭い走査型露光装置を提供する。【解決手段】パターンMpを有したマスクMと基板Pとを対向させ、マスクMと基板Pとを前記対向する方向と直交する走査方向Xに同期移動して、パターンMpを基板Pに転写する走査型露光装置において、マスクMを載置して、走査方向Xと、走査方向と前記対向する方向とに直交する非走査方向Yとに移動可能なマスクステージ32と、基板Pを載置して走査方向Xに移動可能な基板ステージ60と、マスクステージ32と基板ステージ60を走査方向Xに移動した後に、マスクステージ32を非走査方向Yに移動させるステージ制御装置80とを備えたことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

パターンを有したマスクと基板とを対向させ、前記マスクと前記基板とを前記対向する方向と直交する走査方向に同期移動して、前記パターンを前記基板に転写する走査型露光装置において、前記マスクを載置して、前記走査方向と、前記走査方向と前記対向する方向とに直交する非走査方向とに移動可能なマスクステージと、前記基板を載置して前記走査方向に移動可能な基板ステージと、前記マスクステージと前記基板ステージを前記走査方向に移動した後に、前記マスクステージを前記非走査方向に移動させるステージ制御装置とを備えたことを特徴とする走査型露光装置。

IPC (2件)：

G03F 7/20 502 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/20 502 , H01L 21/30 515 F , H01L 21/30 516 B , H01L 21/30 518

引用特許：

審査官引用 (4件)

走査露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-160064 出願人：株式会社ニコン
露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-345619 出願人：株式会社ニコン
走査型露光装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-267903 出願人：株式会社ニコン

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