特許
J-GLOBAL ID：200903011409415307
基板処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-328433
公開番号（公開出願番号）：特開平10-165876
出願日： 1996年12月09日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：
【要約】【課題】 蓋またはケース本体の移動によるパーティクルの巻上げ、およびケース本体および蓋の接触箇所の磨耗を防止しつつ、基板の受入れから搬出までの時間を短縮可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】 この基板処理装置1は、減圧乾燥装置であり、装置本体5上に設置されるケース本体7と、ケース本体7に対して接離可能に支持された蓋9とにより形成される密閉空間内の雰囲気を、真空ポンプ11により排気し、密閉空間内を減圧し、基板3に塗布されたレジスト液を乾燥させる。蓋9は、空気供給部23により駆動されるエアシリンダ19により昇降移動させられる。エアシリンダ19にはエアシリンダ19内のピストン19dの位置を検出するセンサ47,49,51が設けられており、センサ47,49,51からの信号に基づいて、蓋9の移動速度が、蓋9とケース本体7とが近接している領域では遅く、それ以外の領域では速くなるように制御される。
請求項（抜粋）：
密閉空間内で基板に所定の処理を施す基板処理装置において、相対的に開閉可能に設けられ、互いに当接して閉じた状態で前記密閉空間を形成するケース本体および蓋と、前記ケース本体に設けられ、前記密閉空間内にて基板を支持する支持部材と、前記蓋およびケース本体の少なくとも一方を往復移動させ、前記ケース本体と前記蓋とを互いに開閉させる移動手段と、前記移動手段により前記ケース本体と前記蓋とが互いに近接して閉じる方向に移動される際の近接速度を前記ケース本体と前記蓋との間の距離の減少に応じて遅くし、前記ケース本体と前記蓋とが互いに離反して開く方向に移動される際の離反速度を前記距離の増大に応じて速くする速度制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, B05C 11/00
, G03F 7/16 502
, H01L 21/027
B05C 11/08
, B05C 11/00
, G03F 7/16 502
, H01L 21/30 564 C
, H01L 21/30 567
