特許
J-GLOBAL ID：200903011491514695
光導波路の製法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西藤 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-026745
公開番号（公開出願番号）：特開2005-221556
出願日： 2004年02月03日
公開日（公表日）： 2005年08月18日
要約：
【課題】コア層を高精度に形成することができ、光損失の少ない光導波路を作製することのできる光導波路の製法を提供する。【解決手段】基板1面に形成されたアンダークラッド層2上に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を形成し、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層面に対して、所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射して露光した後、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を加熱する。加熱後の紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層の未露光部分を現像液を用いて溶解除去することによりコア層3を形成した後、コア層3上にオーバークラッド層4を形成することにより、光導波路を製造する。そして、紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層が、特定式で表されるエポキシ樹脂および特定式で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方を含有するエポキシ樹脂を主成分とする層形成材料を用いて形成する。【選択図】図5
請求項（抜粋）：
基板面にアンダークラッド層を形成する工程と、上記アンダークラッド層上に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を形成する工程と、上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層面に対して、所定パターンのフォトマスクを介して紫外線を照射して露光する工程と、上記露光後に紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層を加熱する工程と、上記加熱後の紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層の未露光部分を現像液を用いて溶解除去することによりコア層を形成する工程と、上記コア層上にオーバークラッド層を形成する工程とを備えた光導波路の製法であって、上記紫外線硬化型エポキシ樹脂組成物層が、下記の一般式(1)で表されるエポキシ樹脂および下記の一般式(2)で表されるエポキシ樹脂の少なくとも一方を含有するエポキシ樹脂を主成分とする層形成材料を用いて形成されてなることを特徴とする光導波路の製法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
2H047KA02
, 2H047PA02
, 2H047PA21
, 2H047PA28
, 2H047QA05
, 2H047TA41
出願人引用 (2件)
審査官引用 (8件)
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