特許
J-GLOBAL ID:200903011652391963

薄膜状微粒子集積体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 丸山 隆夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-178794
公開番号(公開出願番号):特開2006-000738
出願日: 2004年06月16日
公開日(公表日): 2006年01月05日
要約:
【課題】 微粒子集積体8の品質を落とすことなく、従来よりも短時間に、充分な膜厚を得ることができる、微粒子6の自己集積を利用した薄膜状微粒子集積体の製造方法を提供する。【解決手段】 基板1の一部と、微粒子6を分散媒7に分散させて得られた微粒子分散液2とを接触させた後、基板1、微粒子分散液2、基板および当該微粒子分散液の雰囲気3で作られるメニスカス10先端部の3相接触線9を掃引展開して矢示4の方向に移動させて微粒子集積体8を製造する際、基板1の温度T1を微粒子分散液2の温度T2よりも高くすることなどにより課題を解決した。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
基板の一部と、微粒子を分散媒に分散させて得られた微粒子分散液とを接触させた後、当該基板、当該微粒子分散液、当該基板および当該微粒子分散液の雰囲気で作られるメニスカス先端部の3相接触線を掃引展開して移動させて微粒子集積体を製造する薄膜状微粒子集積体の製造方法であって、 前記基板の温度を前記微粒子分散液の温度よりも高くすることを特徴とする薄膜状微粒子集積体の製造方法。
IPC (4件):
B05D 1/18 ,  B01J 19/00 ,  B05D 3/06 ,  B82B 3/00
FI (4件):
B05D1/18 ,  B01J19/00 K ,  B05D3/06 Z ,  B82B3/00
Fターム (22件):
4D075AB03 ,  4D075AB36 ,  4D075AB54 ,  4D075BB22Y ,  4D075BB23Y ,  4D075BB24Z ,  4D075BB48Z ,  4D075BB93Y ,  4D075CA48 ,  4D075DA06 ,  4D075DB13 ,  4D075DC21 ,  4D075DC24 ,  4D075EA10 ,  4D075EB05 ,  4D075EC03 ,  4G075AA24 ,  4G075AA27 ,  4G075AA63 ,  4G075BB08 ,  4G075CA02 ,  4G075DA02
引用特許:
出願人引用 (14件)
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審査官引用 (7件)
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