特許
J-GLOBAL ID:200903011752804696
マーク位置検出装置、マーク位置検出方法、重ね合わせ測定装置、および、重ね合わせ測定方法
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
古谷 史旺
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-000569
公開番号(公開出願番号):特開2004-212252
出願日: 2003年01月06日
公開日(公表日): 2004年07月29日
要約:
【課題】被検マークのエッジ対の像の形状に拘わらず再現性よく被検マークの位置を検出する。【解決手段】基板上で所定方向に対向配置されたエッジ対を含む被検マークの画像40を取り込む手段と、所定方向に対応する画像40中での第1方向(X)に垂直な第2方向(Y)に沿って異なる複数の箇所SA1〜SANで、画像40中からエッジ対に関わるエッジ信号43を抽出する手段と、複数の箇所SA1〜SANで抽出されたエッジ信号の各々における第1方向の中心座標A1〜ANに基づいて、被検マークの所定方向の位置を算出する手段とを備える。【選択図】 図5
請求項(抜粋):
基板上で所定方向に対向配置されたエッジ対を含む被検マークの画像を取り込む画像取込手段と、
前記所定方向に対応する前記画像中での第1方向に垂直な第2方向に沿って異なる複数の箇所で、前記画像中から前記エッジ対に関わるエッジ信号を抽出する抽出手段と、
前記複数の箇所で抽出された前記エッジ信号の各々における前記第1方向の中心座標に基づいて、前記被検マークの前記所定方向の位置を算出する位置算出手段とを備えた
ことを特徴とするマーク位置検出装置。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (20件):
2F065AA03
, 2F065AA12
, 2F065AA17
, 2F065AA20
, 2F065BB02
, 2F065BB28
, 2F065CC19
, 2F065FF41
, 2F065HH13
, 2F065JJ03
, 2F065JJ09
, 2F065JJ26
, 2F065LL46
, 2F065PP12
, 2F065QQ03
, 2F065QQ13
, 2F065QQ27
, 2F065QQ42
, 2F065RR06
, 2F065TT02
引用特許:
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