特許

J-GLOBAL ID：200903011828393810

ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者： 北條 卓馬 ,  石川 清 ,  安藤 友之
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (5件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  青山 正和 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-351701
公開番号（公開出願番号）：特開2005-234534
出願日： 2004年12月03日
公開日（公表日）： 2005年09月02日
要約：

【課題】 露光量マージンが高く、解像性、ドライエッチング耐性にも優れたポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。【解決手段】 酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、前記樹脂成分(A)が、下記一般式(I)で表される構成単位(a1)と、前記一般式(I)の水酸基が、その水素原子が下記一般式(II)で表される酸解離性溶解抑制基(II)により置換されることによって保護されている構成単位(a2)と、前記一般式(I)の水酸基が、その水素原子が非環式の酸解離性溶解抑制基(III)により置換されることによって保護されている構成単位(a3)とを有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】【化2】【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

酸解離性溶解抑制基を有し、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを含むポジ型レジスト組成物であって、 前記樹脂成分(A)が、下記一般式(I)

IPC (3件)：

G03F7/039 ,  G03F7/033 ,  H01L21/027

FI (3件)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/033 ,  H01L21/30 502R

Fターム (19件)：

2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CB55 ,  2H025CB56 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 電子線またはX線用ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-142185   出願人：富士写真フイルム株式会社

審査官引用 (4件)

• アセタール/脂環式ポリマーおよびフォトレジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-296564   出願人：シップレーカンパニーエルエルシー
• 撮影装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-007310   出願人：コニカ株式会社
• ポジ型電子線、X線又はEUV用レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-060583   出願人：富士写真フイルム株式会社
• ポジ型レジスト組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-272097   出願人：富士写真フイルム株式会社